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    • CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷機
    CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷機
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    詳情 / Introduction
    一、 概述:
    CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷機系機電組合型半自動磁粉探傷設備,由電源控制系統、夾持磁化裝置、磁懸液系統等幾大部分組成,適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的軸、管、棒類零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。
    本設備采用手動、自動兩種運行方式,由可編程控制器(OMRON PLC)集中控制。手動時,可進行每個功能的單步獨立操作;自動時,設備自動執行PLC內部程序,工件上料到位夾緊后,按啟動按鈕,可實現工件的噴淋—轉動—充磁等一系列動作。手動退磁后松開工件。周向磁化采用直接通電,縱向磁化采用兩組異形結構的線圈,具有良好的磁化效果。復合磁化在工件上形成旋轉磁場,一次性全方位顯示磁跡,具有較高的工作效率。
    二、 主要技術參數:
    2.1、磁化方式:周向、縱向、復合三種磁化方式;
    2.2、周向磁化電流:AC 0-4000A有效值,連續可調;
    2.3、縱向磁化磁勢:AC 0-18000AT有效值,連續可調,
    DC 0-18000AT平均值(半波兩倍于平均值),連續可調;
    2.4、周向退磁電流:AC 4000-0A有效值,連續可調;
    2.5、縱向交流退磁磁勢:AC 18000-0AT有效值,連續可調;
    2.6、交流磁化后退磁效果:≤0.3mT;
    2.7、電極間距:0-1250mm(電動可調);
    2.8、暫載率:≥25%;
    2.9、夾持方式:氣動夾緊;
    2.10、運行方式:手動/自動;
    2.11、探傷靈敏度:15/50A1型試片清晰顯示;
    2.12、探傷節拍:約15秒/件(上下料及觀察時間除外,探傷時間和工藝過程可根據需方實際需要,程序可調整);
    2.13、電源:三相四線 380V±5%  50Hz  250A;
    2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H)
    探傷機尺寸:2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)(含噴淋架高度),
    2.15、使用環境:溫度-5℃+40℃,相對濕度≤80%,無腐蝕氣體、粉塵及中高頻干擾;
    2.16、重量:約1300Kg。
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